Представленные системы обеспечивают превосходную производительность и ценовое преимущество, которое вы можете ожидать от мировых лидеров в области литографии. Представленные решения обеспечивают превосходные показателя по разрешению и точности совмещения.
Система проекционной литографии Nikon NSR-2205i11D/i11C предназначена для проведения литографического процесса с высоким разрешением.
Система проекционной литографии Nikon NSR-2205i12D/i12C предназначена для проведения литографического процесса с высоким разрешением.
Система проекционной литографии Nikon NSR-220D — KrF Scanner, предназначена для проведения литографического процесса с высоким разрешением и скоростью.
Система проекционной литографии Nikon NSR-S206D — KrF Excimer Scanner, предназначена для проведения литографического процесса с высоким разрешением и скоростью.
Система проекционной литографии Nikon NSR-S307E — ArF Excimer Stepper, предназначена для проведения литографического процесса с высоким разрешением и скоростью.
Система проекционной литографии Nikon NSR-S322F — ArF Scanner, предназначена для проведения литографического процесса с высоким разрешением и скоростью.
Система проекционной литографии Nikon NSR-S620D — ArF Immersion Scanner, предназначена для проведения литографического процесса с высоким разрешением и скоростью.
Система проекционной литографии Nikon NSR-S622D — ArF Immersion Scanner, предназначена для проведения литографического процесса с высоким разрешением и скоростью.
Система проекционной литографии Nikon NSR-S635E — ArF Immersion Scanner, предназначена для проведения литографического процесса с высоким разрешением и скоростью.
Система проекционной литографии Nikon NSR-SF120 —
Система проекционной литографии Nikon NSR-SF155 —
Система проекционной литографии ASML PAS 5500/100D —
Система проекционной литографии ASML PAS 5500/350C — DUV Stepper, предназначена для проведения литографического процесса с высокой скоростью и разрешением.
Система проекционной литографии ASML PAS 5500/850C — KrF laser Sсanner, предназначена для проведения литографического процесса с высокой скоростью и разрешением для серийного производства логических элементов элементов памяти.
Система проекционной литографии ASML PAS 5500/1150C — ArF laser Sсanner, предназначена для проведения литографического процесса с высокой скоростью и разрешением для серийного производства логических элементов элементов памяти.
Система проекционной литографии ASML Twinscan NXE:3400B — EUV Scanner, предназначена для проведения литографического процесса с высокой скоростью и непревзойдённым разрешением.
Система проекционной литографии ASML Twinscan NXT:2000i — ArF Scanner, предназначена для проведения литографического процесса с высокой скоростью и непревзойдённым разрешением для производства устройств логики и DRAM.
Система проекционной литографии Canon FPA-3030eX6 — KrF excimer laser Stepper, предназначена для проведения литографического процесса с высокой скоростью и разрешением для производства устройств IoT и силовых приборов.
Система проекционной литографии Canon FPA-5550iZ2 —