ПОИСК ПО САЙТУ

Высокотемпературное осаждение (вертикальные и горизонтальные печи)

Фильтр

Показать по:12 24 48 96

Список Таблица

Вертикальная трубная печь VTFS-2-LPCVD

VTFS-2- LPCVD — вертикальная трубная печь, оснащенная роботом для загрузки пластин из кассет. Позволяет проводить широкий круг процессов осаждения из газовой фазы при пониженном давлении (LPCVD). Разработана для крупносерийного производства.

Характеристики

Вертикальная трубная печь VTFX-2-LPCVD

VTFX-2-LPCVD — вертикальная трубная печь, оснащенная роботом для загрузки пластин из кассет. Позволяет проводить широкий круг процессов осаждения из газовой фазы при пониженном давлении (LPCVD). Обладает повышенной производительностью. Разработана для крупносерийного производства.

Характеристики

Горизонтальная трубная печь HTFS-4-LPCVD

HTFS-4-LPCVD — горизонтальная трубная печь для процессов осаждения из газовой фазы при пониженном давлении (LPCVD). Подходит для малосерийного и среднесерийного производства полупроводниковых изделий.

Характеристики

Горизонтальная трубная печь HTFX-4-LPCVD

HTFX-4-LPCVD — горизонтальная трубная печь для процессов осаждения из газовой фазы при пониженном давлении (LPCVD). Подходит для среднесерийного и крупносерийного производства полупроводниковых изделий.

Характеристики