CMP clean 200S — установка отмывки после процессов механической и химико-механической обработки для мелкосерийного производства и НИОКР. Однокамерная конструкция обеспечивает одностороннюю щеточную отмывку, промывку деионизированной водой и комбинированную сушку.
CMP clean 300S – установка отмывки после процессов механической и химико-механической обработки для мелкосерийного производства и НИОКР. Однокамерная конструкция обеспечивает двустороннюю щеточную отмывку, промывку деионизированной водой и комбинированную сушку.
CMP clean 300A — полностью автоматическая установка отмывки после процессов механической и химико-механической обработки. Позволяет проводить отмывку в различной химии, чистку щетками, а также сушку пластин.